特許
J-GLOBAL ID：200903066068269268
埋め込み型高分子光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-225493
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067230
出願日： 1992年08月25日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 光非線形導波素子特有の光学的要求条件及び構造的要求条件を満たす光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 下層クラッド11a及び側方クラッド11bからなるクラッド基板11にコア埋め込み用溝12を予め形成しておき、アゾ基、イミノ基あるいはビニル基などのπ共役二重結合を合計2個以上有する色素が結合した光非線形高分子材料13を加熱注入してコア13Aを形成し、さらに上層クラッド14を形成する。
請求項（抜粋）：
アゾ基、イミノ基あるいはビニル基などのπ共役二重結合を合計2個以上有する色素が結合した光非線形高分子材料からなるコア部と、該コア部よりも屈折率の低いクラッド部とを具備し、上記コア部が上記クラッド部に形成された溝内に埋め込まれていることを特徴とする埋め込み型高分子光導波路。
IPC (2件)：
G02F 1/35 504
, G02B 6/12
