特許

J-GLOBAL ID：200903066070595660

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 小栗 克彦
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-188039
公開番号（公開出願番号）：特開平9-016907
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 低インピ-ダンスノイズの薄膜磁気ヘッドを提供する。【構成】 基板1上に絶縁膜2、磁気コア4,9,12、コイル7を順次積層してなる薄膜ヘッドにおいて、コイル7の形成は絶縁膜2にコイル溝7aをエッチングした後、導体膜をそのコイル溝に埋め込んで行い、コイル溝エッチング時の溝深さ制御のためストッパ膜18を有する薄膜ヘッドの構成とし、下コア4上のストッパ膜18の形成範囲を略上下コア4,12に挟まれた領域とし、コイル溝エッチング時に所定量のオーバエッチングを行なうことにより、ストッパ膜のない領域のコイル溝深さを、ストッパ膜18を有する領域のコイル溝深さより深く形成し、インピ-ダンスノイズを下げるようにした。

請求項（抜粋）：

基板上に絶縁膜、磁気コア、コイルを順次積層してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記コイルの形成は前記絶縁膜にコイル溝をエッチングした後、導体膜を前記コイル溝に埋め込んで行ない、コイル溝エッチング時の溝の深さ制御のためストッパ膜を有する薄膜磁気ヘッドの構成とし、下コア上の前記ストッパ膜の形成範囲を略上下コアに挟まれた領域とし、コイル溝エッチング時に所定量のオーバエッチングを行なうことにより、前記ストッパ膜のない領域のコイル溝の深さを、前記ストッパ膜を有する領域のコイル溝の深さより深く形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。