特許
J-GLOBAL ID：200903066071204746

水処理システム

発明者：
杉山 光一

杉山 光一 について

, 
水野 義一

水野 義一 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-204839
公開番号（公開出願番号）：特開平9-047750
出願日： 1995年08月10日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 水の消費量や産業廃棄物処理プラントへ移送すべき廃物の生成量を抑えるとともに環境の保全に優れた水処理システムを提供する。【解決手段】 純水を生成して半導体装置生産ライン1に供給する超純水製造手段21と、前記半導体装置生産ライン1から排出された廃液を処理する廃液処理手段22とを備えた水処理システムにおいて、前記廃液処理手段22は、前記廃液から水分を取り除いて固形廃物(スラッジや汚泥物)を生成し、この固形廃物をシステムの系外に排出するように構成されている。
請求項（抜粋）：
純水を生成して純水使用施設に供給する純水製造手段と、前記純水使用施設から排出された廃液を処理する廃液処理手段とを備えた水処理システムにおいて、前記廃液処理手段は、前記廃液から水分を取り除いて固形廃物を生成し、この固形廃物をシステムの系外に排出するように構成されていることを特徴とする水処理システム。
IPC (2件)：
C02F 1/00 ,  C02F 1/04
FI (3件)：
C02F 1/00 D ,  C02F 1/00 Z ,  C02F 1/04 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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