特許

J-GLOBAL ID：200903066076477848

プロスタグランジン中間体の製法

発明者： 上野 隆司 ,  小田 冨雄
出願人/特許権者： 株式会社アールテック・ウエノ
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233473
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194469
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】 プロスタグランジン製造工程において、5-6位の二重結合のシス体の生成比を向上させる。【構成】 プロスタグランジン製造プロセスにおいてラクトールにイリドを反応させてα鎖を導入する際、ホスホニウム塩とカリウム塩基から得られるイリドを用い、反応溶媒として反応温度で液体であり、双極子モーメントが0.3〜30である溶媒を使用すること。

請求項（抜粋）：

式(I)または(I')で表わされるラクトール:【化1】【化2】[式中、Yは-CH2-CH2-、-CH=CH-、-CH2-CH2-CH2-、-CH2-CH=CH-または-CH=CH-CH2-(但し、式I'においてYが二重結合を有するときはその二重結合はシス体を示す);R1は置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基、アルコキシアルキル基、またはアリーロキシアルキル基;R2は炭素数1〜4のアルキル基;Zは結合する炭素原子と合して環状アセタールを形成する基;およびXは水素原子または式(a):R5OC(R3)(R4)- (a)(式中、R3およびR4は独立して水素原子または炭素数1〜4のアルキル基;R5は置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基、またはベンジル基(但し、R4とR5は両者合して環を形成してもよい)を表わす)で表わされる基をそれぞれ表わす]と式(II): Ph3P=CH-Q-COO-K+ (II)[式中、Phはフェニル基;Qは置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭素数2-6の炭化水素基を表す]で表わされるイリド(II)とを融点-25°C以下、双極子モーメント0.3〜3.0のエーテル系または芳香族系溶媒中で反応させるプロスタグランジン中間体の製法。