特許

J-GLOBAL ID：200903066080031358

電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器

発明者： 茅野 祐治
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-097258
公開番号（公開出願番号）：特開2004-303645
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】良好な有機EL素子を形成するために、より高精度に層間絶縁膜(平坦化絶縁膜)の平坦化が可能になる電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。【解決手段】基板20と発光層60との間に平坦化絶縁膜284を備えた電気光学装置の製造方法であって、複数の平坦化絶縁膜を積層形成する工程を具備していることを特徴とする。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

基板と発光層との間に平坦化絶縁膜を備えた電気光学装置の製造方法であって、 複数の前記平坦化絶縁膜を積層形成する工程を具備していることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A

Fターム (4件)：

3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01