特許
J-GLOBAL ID：200903066081123477
光アニール方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-120363
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315278
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 互いに偏光方向が直交する複数のビームをビーム径と略同一ピッチで直線状に配列し、このような直線配置の二つのビームを半ピッチにオーバラップさせて試料に照射する光アニール方法において、試料に対するビームの入射方向が配列方向や配列方向と直交する方向などに傾斜しても光アニールが均質に行なわれるようにする。【構成】 直線配置の二つのビーム48,49の配列方向と偏光方向とを45度で交差させ、試料に対する入射方向が傾斜しても二つのビーム48,49の反射率が同一に変化するようにする。
請求項（抜粋）：
強度分布がガウス型で互いに偏光方向が直交する複数のビームを第一・第二の光出射装置がビーム径と略同一ピッチの直線状の配列で出射し、これら第一・第二の光出射装置から出射されたビームをビームコンバイナーが配列方向でビーム径の半ピッチにオーバラップさせて試料に照射するようにした光アニール方法において、前記第一・第二の光出射装置のビームの配列方向と偏光方向とが45度で交差するようにしたことを特徴とする光アニール方法。
IPC (2件)：
H01L 21/268
, H01L 21/324
