特許

J-GLOBAL ID：200903066125431794

レジストパターンの作成方法、その方法により得られるプリント配線板及びその作成装置

発明者： 内川 克美
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-260694
公開番号（公開出願番号）：特開平8-125312
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 従来別工程で作成されていたマスクを代替えするレジストパターンの作成方法及びその作成装置を提供する。【構成】 レジストで被覆された被写体上に透明なマスク基板を載置し、該透明なマスク基板上に直接インク噴射機を用いてマスクを描画し、該マスクを介してレジストにパターンを露光し、前記透明なマスク基板を剥離し、レジストを現像することにより所定のレジストパターンを形成することを特徴とするレジストパターンの作成方法及びその作成装置。

請求項（抜粋）：

レジストで被覆された被写体上に透明なマスク基板を載置し、該透明なマスク基板上に直接インク噴射機を用いてマスクを描画し、該マスクを介してレジストにパターンを露光し、前記透明なマスク基板を剥離し、レジストを現像することにより所定のレジストパターンを形成することを特徴とするレジストパターンの作成方法。

IPC (2件)：

H05K 3/28 ,  H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• インクジェットプリントを使用するフォトイメージング法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-105274   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 特開昭54-143231
  
• 特表平2-501427
  
• 特開昭63-124052