特許
J-GLOBAL ID：200903066129779213

光学活性スチレンオキサイド類の速度論的光学分割の方法

発明者：
丸尾 政文

丸尾 政文 について

, 
齋藤 憲治

齋藤 憲治 について


出願人/特許権者：
住化ファインケム株式会社

住化ファインケム株式会社 について


代理人 (1件)： 高島 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-241124
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053666
出願日： 1998年08月11日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：
【要約】【課題】 短時間で光学純度の高い光学活性スチレンオキサイド類を製造できる速度論的光学分割の方法を提供する。【解決手段】 ラセミ体または一方の光学異性体が多く存在するスチレンオキサイド類を、不斉触媒(特にサレン金属触媒)、有機酸、および水の存在下で速度論的光学分割を行う。
請求項（抜粋）：
不斉触媒、有機酸、および水の存在下で、一般式(1)【化1】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはトリフルオロメチル基を表し、R2 、R3 は同一または異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはトリフルオロメチル基を表すか、あるいはR2 とR3 とが一緒になってメチレンジオキシ基を形成していてもよい。)で表されるラセミ体または一方の光学異性体が多く存在するスチレンオキサイド類の速度論的光学分割を行うことを特徴とする、式(2)【化2】(式中、R1 、R2 およびR3 は上記と同義である。)で表される光学活性スチレンオキサイド類の製造方法。
IPC (7件)：
C07D301/32 ,  B01J 31/22 ,  C07B 53/00 ,  C07D303/04 ,  C07D407/04 303 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00
FI (6件)：
C07D301/32 ,  B01J 31/22 Z ,  C07B 53/00 B ,  C07D303/04 ,  C07D407/04 303 ,  C07B 61/00 300
Fターム (51件)：
4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048BB03 ,  4C048BB08 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4C048XX03 ,  4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC81 ,  4C063DD71 ,  4C063EE05 ,  4G069AA06 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BA36A ,  4G069BC31A ,  4G069BC50A ,  4G069BC54A ,  4G069BC58A ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC67B ,  4G069BC68A ,  4G069BE20A ,  4G069BE20B ,  4G069BE36A ,  4G069BE36B ,  4G069BE37A ,  4G069BE37B ,  4G069CB41 ,  4G069CB57 ,  4G069CB73 ,  4G069DA02 ,  4H006AA02 ,  4H006AC83 ,  4H006BA05 ,  4H006BA10 ,  4H006BA12 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA46 ,  4H006BE60 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD30
引用文献：
審査官引用 (3件)

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