特許

J-GLOBAL ID：200903066153107900

液状レジストインク組成物及びプリント回路基板

発明者： 橋本 壯一 ,  宮山 聡 ,  三宅 得山
出願人/特許権者： 互応化学工業株式会社
代理人 (1件)： 安藤 惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-335040
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157965
出願日： 1992年11月20日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 (1)式の化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物に飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤、希釈剤及び熱硬化性エポキシ化合物を含む、希アルカリ水溶液で現像可能な液状レジストインク組成物。【効果】 解像性、耐溶剤性、耐メッキ性、耐電蝕性等の電気特性、可撓性及び基材密着性等に優れ、特に耐熱性が極めて良好で低露光量でも良好なパターン形成することを可能とする。〔Rはk個の活性水素を有する有機化合物残基、n1,n2・・nkは0又は1〜50の整数で、和が1〜50である。(R′は水素原子、アルキル基、アルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基)に置換可。〕

請求項（抜粋）：

A.下記の一般式(I)【化1】〔但し、式中、Rはk個の活性水素を有する有機化合物残基、n1 、n2 ・・nk は0又は1〜50の整数で、その和が1〜50である。また、式中の下記官能基【化2】(但し、R’は水素原子、アルキル基、アルキルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示す)に置き換えてもよい。〕で表される化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物に飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能な液状レジストインク組成物。

IPC (5件)：

C09D 11/10 PTR ,  C08G 59/17 NHG ,  C08G 59/40 NKH ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/28

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-120308