特許

J-GLOBAL ID：200903066159093707

ホトレジスト除去液

発明者： 中村 剛 ,  大野 勇人
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332942
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141265
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】 安価で、洗浄除去能力に優れ、人体に対する安全性が高く、また基板周縁部をエッジリンス処理した後のホトレジスト端縁部の盛り上がり現象や裾引き現象を抑制し得る、基板端縁部のホトレジストの除去に用いられる除去液を提供する。【解決手段】 基板端縁部に付着した不要なホトレジストを除去するための除去液であって、1-メトキシ-2-プロパノールと3-メトキシ-1-プロパノールとからなり、かつ、3-メトキシ-1-プロパノールの配合量が除去液全量に対し0.03〜0.15重量%である除去液。

請求項（抜粋）：

基板端縁部に付着した不要なホトレジストを除去するための除去液であって、1-メトキシ-2-プロパノールと3-メトキシ-1-プロパノールとからなり、かつ、3-メトキシ-1-プロパノールの配合量が除去液全量に対し0.03〜0.15重量%である除去液。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

G03F 7/16 502 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 577 ,  H01L 21/306 D

Fターム (14件)：

2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025EA10 ,  2H096AA25 ,  2H096CA20 ,  2H096DA04 ,  2H096LA30 ,  5F043BB27 ,  5F043CC16 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22