特許
J-GLOBAL ID：200903066161182946
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-285163
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129267
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 装置の小形化による設置面積の縮小と洗浄液等の消費量の削減によるランニングコストの低減を図ることのできる洗浄装置を提供する。【構成】 ウエハキャリア40内の半導体ウエハを整列機構41で所定向きに整列させ、ピッチ変換機構42によって1/2 ピッチ等にピッチ変換する。ピッチ変換した半導体ウエハを回転搬送アーム9により、洗浄処理槽10、11、水中ローダ7に順次搬送し、洗浄処理する。この後、水中ローダ7によって、洗浄処理ユニット3に移送し、回転搬送アーム12によって、洗浄処理槽13、14、水中ローダ8に順次搬送し、洗浄処理する。しかる後、水中ローダ8によって、半導体ウエハを洗浄処理ユニット4に移送し、回転搬送アーム15によって、乾燥処理槽17に搬送する。また、回転搬送アーム15のウエハフォークを洗浄・乾燥機構16内に挿入して洗浄・乾燥する。
請求項（抜粋）：
被洗浄基板を洗浄するための複数の洗浄処理槽と、前記洗浄処理槽毎に設けられ、所定ピッチで互いに平行する如く複数の前記被洗浄基板を支持し、洗浄を実施する洗浄用支持手段と、所定ピッチで互いに平行する如く複数の前記被洗浄基板を支持し、搬送して前記洗浄用支持手段にロード・アンロードする搬送用支持手段と、前記被洗浄基板を複数収容する搬送用治具から、該被洗浄基板を取り出し、これらの被洗浄基板のピッチを、前記搬送用支持手段のピッチに変換するピッチ変換手段とを具備したことを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
