特許
J-GLOBAL ID:200903066162315389
蒸溜中におけるジ(メタ)アクリレートの生成を減少させる方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-268577
公開番号(公開出願番号):特開平5-194321
出願日: 1992年10月07日
公開日(公表日): 1993年08月03日
要約:
【要約】【目的】 ヒドロキシアルキルアクリレートまたはヒドロキシアルキルメタクリレートの蒸溜中に生成する望ましくないジ(メタ)アクリレートの量を減少する方法を提供する。【構成】 アクリル酸またはメタクリル酸と酸化アルキレンとの鉄を触媒とした反応から得られたヒドロキシアルキルアクリレートまたはヒドロキシアルキルメタクリレートの蒸溜を、特定した触媒不活性化用添加剤の有効量の存在において実施する。
請求項(抜粋):
(メタ)アクリル酸と酸化アルキレンとの鉄を触媒とした反応から得られたヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの蒸溜中におけるジ(メタ)アクリレートの生成を減少させる方法であって、次の(a) 〜(g) から選ばれた1種またはそれ以上の触媒不活性化用添加剤の有効量の存在において、前記蒸溜を実施する、前記ジ(メタ)アクリレートの生成の減少方法:(a) 置換または非置換のアルキルまたはアラルキル モノ-、ジ-、またはトリ-カルボン酸およびそれらの酸無水物または混合酸無水物、(b) アルコキシ、アルキル、ハロ、またはアリール置換アリール モノ-、ジ-、またはトリ-カルボン酸およびそれらの酸無水物または混合酸無水物、(c) 置換または非置換のC3 -C10隣位ジオール、(d) 置換または非置換のo-置換フェノール、ただし、アルファ-置換基は、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、またはカルボキシメチルから選ばれ、そして置換されているときは、置換基は、アルコキシ、アルキル、ハロ、またはアリールから選ばれた1〜4個の基から選ばれる、(e) 置換または非置換のo-置換ポリ芳香族アルコール、(f) 置換または非置換の無水ジグリコール酸、(g) ポリ(メタ)アクリル酸。
IPC (3件):
C07C 69/54
, C07C 67/54
, C07C 67/62
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)
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特開昭51-133227
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特開昭51-008214
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特開平4-066554
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