特許

J-GLOBAL ID：200903066163472925

基板現像装置および基板現像方法

発明者： 松家 毅
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-295700
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100615
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 正確なレジストパターンを得ることができる基板現像装置および基板現像方法を提供する。【解決手段】 現像処理の間、基板Wに近接して位置するプローブ81によって、レーザー光が基板Wに照射されるとともに、基板Wに盛られた現像液からの散乱光が捉えられ、ラマン分光処理ユニット85により、現像液中のベンゼン環の濃度が測定され、それを基にレジスト膜から現像液中に溶出するベンゼン環の溶出量が常時モニタされる。この溶出量は現像の進行とともに増加するため、現像を終了すべき時点である現像終点に対応する溶出量に至った段階で現像を終了する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたレジスト膜に露光されたパターンを現像液によって現像する基板現像装置であって、前記レジスト膜に含有される成分のうち、基板上に盛られた現像液中に溶出する溶出成分の一つを特定成分とし、前記レジスト膜から前記現像液中に溶出した前記特定成分の溶出量を検出する溶出量検出手段と、前記溶出量検出手段によって検出された前記特定成分の溶出量に基づいて、現像処理を終了させるべき時点である現像終点に現像処理が到達しているか否かを判断する現像終点判断手段と、を備えることを特徴とする基板現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 G

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096GA60 ,  2H096LA19 ,  5F046LA15 ,  5F046LA18