特許
J-GLOBAL ID：200903066176999876
真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-299387
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323549
出願日： 1999年10月21日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 スループットの向上を図り,さらに,装置の大型化を抑えることの可能な真空処理装置を提供する。【解決手段】 真空処理装置100は,第1の予備真空室110及び第2の予備真空室120に複数のウェハWを収容して冷却する冷却機構200を備え,冷却機構は,ウェハが載置されてウェハを冷却する複数の冷却台210と,冷却台に載置されたウェハを冷却台に対して相対的に上昇または下降させる昇降手段220とを備えたことを特徴とする。処理後の複数のウェハを,複数の冷却台において一括して冷却できるため,ウェハの冷却時間を短縮し,スループットの向上を図ることができる。さらに,冷却機構を予備真空室内に設けたので,装置の大型化を抑えることができる。
請求項（抜粋）：
第1の予備真空室及び第2の予備真空室と,前記第1の予備真空室及び前記第2の予備真空室と気密に接続され,前記第1の予備真空室,前記第2の予備真空室,及び複数の真空処理室の間で被処理体の搬送を行う第1の搬送装置を備えた第1の搬送室と,前記第1の予備真空室及び前記第2の予備真空室と気密に接続され,前記第1の予備真空室,前記第2の予備真空室,及び被処理体収容手段の間で前記被処理体の搬送を行う第2の搬送装置を備えた第2の搬送室と,を備えた真空処理装置において,前記第1の予備真空室及び前記第2の予備真空室は,複数の前記被処理体を収容して冷却する冷却機構を備え,前記冷却機構は,前記被処理体が載置されて前記被処理体を冷却する複数の冷却台と,前記冷却台に載置された前記被処理体を前記冷却台に対して相対的に上昇または下降させる昇降手段とを備えたことを特徴とする,真空処理装置。
Fターム (16件)：
5F031CA02
, 5F031DA17
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA37
, 5F031GA43
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA50
, 5F031MA04
, 5F031MA07
, 5F031MA09
