特許
J-GLOBAL ID:200903066182634286

直接酸化エチレンオキシドプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-201626
公開番号(公開出願番号):特開平7-053536
出願日: 1993年08月13日
公開日(公表日): 1995年02月28日
要約:
【要約】【目的】 直接酸化エチレンオキシド製造プロセスを提供すること。【構成】 (a)1基以上の反応器においてエチレンを含む供給ガス流と商業的に純粋な酸素とを反応させる工程と(b)1基以上の反応器からの生成物流から第1吸収帯においてエチレンオキシドを吸収させる工程とを含むタイプの直接酸化エチレンオキシドプロセスにおいて、エチレン含量の多いアルゴンパージガス流から、組合せた吸収装置とストリッパーとを介して未反応エチレンを回収し、回収されたエチレンを供給ガス流に再循環させ、エチレン含量の少ないアルゴンパージガス流をパージするプロセス。
請求項(抜粋):
(a)1基以上の反応器においてエチレンと商業的に純粋な酸素とを含む供給ガス流を反応させる工程と(b)1基以上の反応器からの生成物流から第1吸収帯においてエチレンオキシドを吸収させる工程とを含むタイプの直接酸化エチレンオキシドプロセスにおいて、エチレン含量の多いアルゴンパージガス流から、組合せた吸収装置とストリッパーとを介して未反応エチレンを回収し、回収されたエチレンを供給ガス流に再循環させ、エチレン含量の少ないアルゴンパージガス流をパージすることを特徴とするプロセス。
IPC (2件):
C07D301/08 ,  C07D303/04
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭60-174732
  • 特開昭62-084069

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