特許
J-GLOBAL ID：200903066187212100
スパッタリング装置用ターゲット材及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-038990
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237637
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 スパッタリング装置用ターゲット材及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法において、再付着膜のターゲットからの剥離頻度を低くでき、しかも、高純度の膜形成が可能になるスパッタリング装置用ターゲット材を実現すること、並びに、低い欠陥発生率で磁気記録媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法を実現すること。【解決手段】 ターゲット材11におけるターゲットの表面となる部分を、ターゲット材11の内部と同質材料でなる熔射膜11aで構成する。或いは、ターゲット材11におけるターゲットの表面となる部分を、放電加工や酸によるエッチングにて形成する。磁気記録媒体の製造に際しては、これらのターゲット材を用いる。
請求項（抜粋）：
加速したイオンをターゲットの表面に衝突させて、前記ターゲットから原子を弾き出させ、この弾き出された原子を基板に付着させることにより、基板上への成膜を行うスパッタリング装置にて、前記ターゲットとして用いられるスパッタリング装置用ターゲット材において、前記ターゲットの表面となる部分を、内部と同質材料でなる熔射膜で構成したことを特徴とするスパッタリング装置用ターゲット材。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, G11B 5/85 C
