特許
J-GLOBAL ID：200903066188723914
ポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパタ-ン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-220810
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109517
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 耐水性、現像性が良好で、優れたパターニング性を有する感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)及び(II)で表される構成単位を含有するポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂であって、前記一般式(I)及び(II)の構成単位の含有量が、ポリ酢酸ビニルケン化物の構成ユニットに対して0.5〜10モル%とする。(但し、R1はアルキル基、アラルキル基又は低級アルコキシルカルボニルアルキル基を示し、これらの基はヒドロキシル基、カルバモイル基、エーテル結合、不飽和基を含んでもよい。R2は、水素原子、低級アルコキシ基を表し、mは0又は1、nは1〜6の整数を表す。また、下記式の部分は、四級化された芳香族含窒素複素環基のカチオン部を表す)
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)及び(II)で表される構成単位を含有するポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂であって、【化1】【化2】(但し、R1はアルキル基、アラルキル基又は低級アルコキシルカルボニルアルキル基を示し、これらの基はヒドロキシル基、カルバモイル基、エーテル結合、不飽和基を含んでもよい。R2は、水素原子、低級アルコキシ基を表し、mは0又は1,nは1〜6の整数を表す。また、下記式の部分は、四級化された芳香族含窒素複素環基のカチオン部を表す)【化3】前記一般式(I)のX1-がpK1値が3.5以下である二塩基酸以上の多塩基酸由来の陰イオンを表し、前記X2-はX1-以外の陰イオンを表し、且つ前記一般式(I)及び(II)の構成単位の含有量が、ポリ酢酸ビニルケン化物の構成ユニットに対して0.5〜10モル%であることを特徴とするポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂。
IPC (4件)：
C08F 18/08
, G03F 7/038 501
, H01J 9/227
, C08L 31/04
C08F 18/08
, G03F 7/038 501
, H01J 9/227 C
, C08L 31/04 G
