特許
J-GLOBAL ID：200903066192174232
プロジェクションマスクアライナのフォーカス調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-135484
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008158
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、マルチチップ基板上の絶縁膜、或いは金属膜のパターニング時のプロジェクションマスクアライナ工程におけるマスクとマルチチップ基板間の焦点距離の調整方法に関し、短時間に正確な焦点調整を行う方法を提供する。【構成】 基板1上の絶縁膜2、或いは金属膜3をパターニングする際の位置合わせ工程において、標準の基板ステージ4、或いはマスクステージ7の厚さに、基板1上の絶縁膜2と同等の厚さを加味した厚さを有する焦点の調整用基板ステージ5、或いは焦点の調整用マスクステージ8を用いて、マスク6に対する基板1の焦点距離を調整する。
請求項（抜粋）：
基板(1) 上に形成された膜(2、3)をパターニングする際の位置合わせ工程において、標準の基板ステージ(4) の厚さに該基板(1) 上の該膜(2、3)と同等の厚さを加味した厚さを有する焦点の調整用基板ステージ(5) を用いて、マスク(6) に対する基板(1) の焦点距離を調整することを特徴とするプロジェクションマスクアライナのフォーカス調整方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 526 Z
