特許
J-GLOBAL ID：200903066246917473
透明合成石英ガラスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
成瀬 勝夫
, 中村 智廣
, 佐野 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-176077
公開番号（公開出願番号）：特開2004-018317
出願日： 2002年06月17日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】157nm波長の透過率が高く、紫外域から真空紫外域でリソグラフィーなどに用いられるフォトマスク基板、ステッパーレンズ材、プリズム材、窓材、ランプ等の光学材料として有用な透明石英ガラスを提供する。【解決手段】シリカ粒子を主原料としてゾルゲル法、スリップキャスト法又は真空・加圧鋳込み形成法により作成されたシリカのドライ成型体を加熱して緻密な透明合成石英ガラスを製造する方法において、加熱による焼結の際、1370〜1570Kの温度で3〜24時間保持し、その後10-1Pa以下の雰囲気圧力を保ちながら、1700K以上に昇温して緻密化することにより、OH含有量が10〜30ppmで、光路長10mmでのF2レーザー透過率が70%以上である紫外光透過合成石英ガラスを得る。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
高純度シリカゾル又は高純度シリカゾルとシリコンアルコキシドを原料として調製されたシリカ乾燥成形体を、熱処理して緻密な透明合成石英ガラスを製造する方法において、熱処理が1370〜1570Kの温度で3〜24時間の条件で行う焼結処理と、その後10-1Pa以下の雰囲気圧力で、1700K以上の条件で行う緻密化処理とを有することを特徴とする透明合成石英ガラスの製造方法。
IPC (3件)：
C03B8/02
, C03B20/00
, G02B1/00
C03B8/02 M
, C03B8/02 A
, C03B8/02 F
, C03B8/02 J
, C03B8/02 N
, C03B20/00 C
, C03B20/00 E
, C03B20/00 F
, G02B1/00
4G014AH02
, 4G014AH04
, 4G014AH06
