特許

J-GLOBAL ID：200903066257189720

加硫ゴムの表面処理方法

発明者： 草野 行弘 ,  秋山 節夫 ,  吉川 雅人 ,  内藤 壽夫 ,  岡崎 幸子 ,  小駒 益弘
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン ,  岡崎 幸子 ,  小駒 益弘
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-180292
公開番号（公開出願番号）：特開平5-202208
出願日： 1992年06月15日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【構成】 酸素原子を含むガスとハロゲン原子を含むガスを用いて加硫ゴムの表面を大気圧プラズマ処理することを特徴とする加硫ゴムの表面処理方法を提供する。【効果】 本発明によれば、クリーンな環境で簡単に加硫ゴムの表面処理を行うことができ、低圧グロープラズマ処理した場合と比較してはるかに良好な接着性表面を有する加硫ゴムを得ることができ、また、ごく表面のみに処理が施されるため加硫ゴム自体の物性を損なうことがない。

請求項（抜粋）：

加硫ゴムの表面を酸素原子を含むガスとハロゲン原子を含むガスを用いて大気圧プラズマ処理することを特徴とする加硫ゴムの表面処理方法。

IPC (3件)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CEQ ,  C08J 5/12 CEQ