特許
J-GLOBAL ID：200903066257812266
回折格子の作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-317865
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148413
出願日： 1992年11月02日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【目的】同一基板上に位相の変化した回折格子を精度良く安定に作成することである。【構成】基板1上に基準となる周期を有する薄膜材料の矩形状の回折格子パターン3を形成する。この回折格子パターン3の周期とは反転した周期を有する回折格子を形成する領域に、反転周期パターンを異種材料8で形成し、薄膜材料3を除去することにより周期の反転した異種材料の回折格子パターン8を形成する。リフトオフ法により、中間層4を除去することにより基準となる周期パターン3を形成する。これら基準周期回折格子パターン3及び反転周期回折格子パターン8をエッチングマスクとして位相シフト型の回折格子11を得る。
請求項（抜粋）：
基板上に、最下層を、基準となる周期を有する薄膜材料の回折格子パターン層として、順次、中間層、最上層を形成して複数のマスク層とする工程と;中間層、最上層にパターンを形成する工程と;露出した前記薄膜材料上及び基板の露出部に異種材料を被覆する工程と;前記薄膜材料を除去することにより異種材料による周期の反転した回折格子パターンを得る工程と;前記中間層を除去することにより、前記基準となる薄膜材料の回折格子パターンを露出させる工程を含み、更に、前記基準となる周期を有する薄膜材料の回折格子パターン及び前記周期の反転した異種材料の回折格子パターンをエッチングマスクとして基板をエッチングして位相シフト型の回折格子を得る事を特徴とする回折格子の作成方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, G02B 6/12
, H01S 3/18
