特許
J-GLOBAL ID：200903066259802225
転写シート及びこれを用いた化粧材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-267895
公開番号（公開出願番号）：特開平6-191195
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】 きれいな凹凸模様を安定して形成するエンボス製造方法を提供する。【構成】 電離放射線透過シートに電離放射線遮蔽性模様層を設け、さらに全面に着色模様層を設けて転写シートを形成する。被転写基材に電離放射線硬化性樹脂を塗布し、この塗布面と転写シートの塗布面とを向き合うように重ね合わせて電離放射線透過シート側から、電離放射線を照射する。照射後に電離放射線透過シートを剥離して、被転写基材に凹凸模様を形成する方法で、各層間の接着強度および電離放射線硬化性樹脂の凝集力等の相互間の力関係を特定化することにより、きれいな凹凸模様を安定して形成できる。
請求項（抜粋）：
電離放射線透過性シートに電離放射線遮蔽性模様層を設け、次いで、前記模様層を覆うようにして全面に着色模様層を設けるとともに、電離放射線遮蔽性模様層の電離放射線透過性シートに対する密着力が、前記着色模様層の電離放射線透過性シートに対する密着力より強く、且つ、着色模様層の電離放射線遮蔽性模様層に対する密着力が、電離放射線透過性シートに対する密着力より強くすることを特徴とする転写シート。
IPC (5件)：
B44C 1/165
, B32B 31/18
, B32B 33/00
, B41M 3/06
, B29C 59/16
