特許

J-GLOBAL ID：200903066268150460

浄水装置及び膜エレメントの洗浄方法

発明者： 井上 勇
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000912
公開番号（公開出願番号）：特開2001-190937
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 膜エレメントの表面に付着した固形分の除去性能に優れると共に、膜エレメントの表面の損傷を十分に防止できる浄水装置及び膜エレメントの洗浄方法を提供する。【解決手段】 本発明の浄水装置1は、被処理水が供給される処理槽11と、処理槽内の被処理水W中に浸漬され、被処理水Wを膜ろ過して処理水を得る平膜33と、処理槽11内に気泡3を発生させるバブリング装置25と、処理槽11内の気液界面に浮上することが可能な浮遊性固体2とを備え、平膜33の洗浄時に、気液界面を平膜33の上下両端間の範囲内に移動させると共に、平膜33に気泡3を送り込み、浮遊性固体2を振動させて平膜33と強く擦り合わせ、膜面に付着した固形分を効率よく洗浄する。浮遊性固体2は洗浄時にのみ膜面と接触するので、膜面の損傷が防止される。

請求項（抜粋）：

被処理水が供給される処理槽と、前記処理槽内の前記被処理水中に浸漬され、該被処理水を膜ろ過して処理水を得る膜エレメントと、前記膜エレメントに気泡を送り込む散気手段とを備える浄水装置において、前記処理槽内の気液界面に浮上することが可能な浮遊性固体と、前記気液界面と前記膜エレメントとを相対的に移動させる移動手段と、を備えることを特徴とする浄水装置。

IPC (6件)：

B01D 65/08 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/04 ,  B08B 3/10 ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 3/12

FI (6件)：

B01D 65/08 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/04 ,  B08B 3/10 Z ,  C02F 1/44 ZAB K ,  C02F 3/12 S

Fターム (35件)：

3B201AA47 ,  3B201AB40 ,  3B201AB42 ,  3B201BA01 ,  3B201BA22 ,  3B201BB02 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201BC05 ,  3B201CB12 ,  4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31A ,  4D006JA35A ,  4D006KA12 ,  4D006KA43 ,  4D006KA44 ,  4D006KA62 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KC14 ,  4D006KC17 ,  4D006MA03 ,  4D006PA02 ,  4D006PB08 ,  4D006PC64 ,  4D028BB01 ,  4D028BC11 ,  4D028BC17 ,  4D028BD00 ,  4D028BD08 ,  4D028BD17