特許

J-GLOBAL ID：200903066274723501

触媒被覆層の形成方法

発明者： 沼本 浩直 ,  寺島 徹生
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-228160
公開番号（公開出願番号）：特開平6-071186
出願日： 1992年08月27日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 連通孔を有する構造体に触媒被覆層を作業性、生産性よく均一に形成するための製造方法を提供する。【構成】 連通孔を有する構造体をスラリー中に浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成した後、前記構造体にさらに触媒被覆層を形成させる際、酸性水溶液に浸漬し、構造体に形成した触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にした後、スラリー中に浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成させる触媒被覆層の形成方法。連通孔を有する構造体をスラリー中に浸漬する際、超音波振動を発生させながら行い、取り出す際には超音波振動を止めて触媒被覆層を形成させる触媒被覆層の形成方法。連通孔を有する構造体を酸性スラリー中に浸漬後、連通孔中のに余分なスラリーを除去した後、塩基性ガスに接触させてスラリー粘度を上昇させ乾燥、焼成して触媒被覆層を形成させる触媒被覆層の形成方法より構成される。

請求項（抜粋）：

連通孔を有する構造体を、スラリー中に浸漬、乾燥、焼成して触媒被覆層を形成する工程の後、前記構造体にさらに触媒被覆層を形成させる工程の前に、酸性水溶液に浸漬する工程を設け、前記構造体に形成した触媒被覆層を中性あるいは弱酸性にすることを特徴とする触媒被覆層の形成方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-095553
  
• 特開昭58-109140
  
• 特開昭54-160581