特許

J-GLOBAL ID：200903066275014636

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  児玉 邦彦 ,  青合 利明 ,  佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-333145
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167199
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】 露光後加熱処理までの経時での問題が解決され、感度、解像力が高く、しかもレジストパターン倒れもなく、優れたレジストパターンが得られるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び露光部の溶解速度を遅くする効果の大きい光酸発生剤(B-1)と、該(B-1)と比較して露光部の溶解速度を遅くする効果の小さい光酸発生剤(B-2)の混合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物(光酸発生剤)を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、前記(B)が、露光部の溶解速度を遅くする効果の大きい光酸発生剤(B-1)と、該(B-1)と比較して露光部の溶解速度を遅くする効果の小さい光酸発生剤(B-2)の混合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R