特許

J-GLOBAL ID：200903066282004867

ガスハイドレートの生成制御剤およびそれを用いたガスハイドレートの生成制御方法

発明者： 遠山 昌之 ,  大上 暢子 ,  西田 耕二
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349204
公開番号（公開出願番号）：特開2001-164274
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの生成を阻害する働きと、ガスハイドレートを平衡論的および速度論的に安定化させる働きを併せ持つガスハイドレートの生成制御剤、およびガスハイドレートの生成制御方法を提供する。【解決手段】 式(1)で表されるビニル単量体を(共)重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。【化1】(ただし式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基を表わす。)

請求項（抜粋）：

式(1)で表されるビニル単量体を(共)重合して得られる高分子化合物を含んでなるガスハイドレートの生成制御剤。【化1】(ただし式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基を表わす。)

IPC (2件)：

C10L 3/06 ,  C08F220/28

FI (2件)：

C08F220/28 ,  C10L 3/00 A

Fターム (26件)：

4J100AE03Q ,  4J100AE04Q ,  4J100AG02Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL16P ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AM19Q ,  4J100AN04Q ,  4J100AQ06Q ,  4J100AQ08Q ,  4J100AQ15Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA31Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC65Q ,  4J100BC79Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA24