特許

J-GLOBAL ID：200903066287665535

光加工機

発明者： 立川 仁
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-256882
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085765
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 異なる光加工特性を有する2種類以上の材料を積層した光加工物を良好に光加工することができる光加工機を得ること。【解決手段】 光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において、該光源手段からの光束は互いに発振時間の異なるパルス光を放射する第1,第2光源手段の2つの光源手段からの光束を合波した合波光束であること。

請求項（抜粋）：

光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において、該光源手段からの光束は互いに発振時間の異なるパルス光を放射する第1,第2光源手段の2つの光源手段からの光束を合波した合波光束であることを特徴とする光加工機。

IPC (2件)：

H01S 3/00 ,  B23K 26/06

FI (2件)：

H01S 3/00 B ,  B23K 26/06 A

Fターム (21件)：

4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CD02 ,  4E068CD05 ,  4E068CD10 ,  5F072AB01 ,  5F072HH02 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ09 ,  5F072KK08 ,  5F072KK12 ,  5F072KK13 ,  5F072KK30 ,  5F072MM07 ,  5F072MM08 ,  5F072PP01 ,  5F072QQ02 ,  5F072RR01 ,  5F072SS06 ,  5F072YY06