特許
J-GLOBAL ID：200903066299332027
反射型マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270636
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122480
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 反射型マスクに設けられた所望形状のパターンをレジスト等の感光部材に高精度に、高いコントラストを有するようにかつシャープに転写することのできる反射型マスクを提供する。【構成】 所望形状のパターンを有する反射型マスク1であって、所望形状のパターンが形成された基板2を含み、所望形状のパターンに対応する部分は凸部4を形成し、残りの部分は凹部5を形成し、凸部4の頂部表面3aは、光反射性特性を有し、凹部5の側壁5Sおよび底面7は、少なくとも光吸収性特性を有する。
請求項（抜粋）：
所望形状のパターンを有する反射型マスクであって、前記所望形状のパターンが形成された基板を含み、前記所望形状のパターンに対応する部分は凸部を形成し、残りの部分は凹部を形成し、前記凸部の頂部表面は、光反射性特性を有し、前記凹部の側壁および底面は、少なくとも光吸収性特性を有する、反射型マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 502 P
