特許
J-GLOBAL ID：200903066303367027
マスフローコントローラ装置及びその校正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282202
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134052
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 プロセスガスを真空処理室に流量制御しながら導入する際に使用しているマスフローコントローラの校正について、プロセスガスを用い、より正しく校正できるようにする。【構成】 マスフローコントローラ4からプロセスガスを真空処理室7にある一定時間流し、その真空処理室7の圧力増加等からマスフローコントローラ4が制御した実流量を演算する実流量演算部10と、ガス流量設定入力部1で設定された流量と前述した実流量との差を演算する比較回路12及び補正値演算部13と、実際に設定流量と実流量を一致させる補正回路2を持つことにより、設定流量と実流量とのズレを校正することができる。
請求項（抜粋）：
真空処理室内を真空にした時の真空度と一定時間後の真空度とをそれぞれ、圧力計で測定してその差の値を求め、次で、再び真空処理室内を真空にした時の真空度とプロセスガスをマスフローコントローラによって設定流量値で一定時間流した後の真空度とをそれぞれ、圧力計で測定してその差の値を求め、前記2つの差の値、一定時間、真空処理室と圧力計との総体積、及び温度との関係式より前記マスフローコントローラの実流量値を求め、前記設定流量値に実流量値が等しくなるように流量設定の補正を行なうマスフローコントローラ装置の校正方法。
IPC (3件)：
G01F 1/76
, G01F 15/02
, G05D 7/06
