アセタール基を有する酸増幅剤およびこれを含むフォトレジスト組成物

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：森田憲一 , 山口健次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-185640
公開番号（公開出願番号）：特開2009-024172
出願日： 2008年07月17日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：

【課題】露光中に光酸発生剤から発生された酸によって、露光後の加熱過程中に2次酸を生成して、フォトレジストパターンのラインエッジ粗さを改善し、フォトレジストのエネルギー感度を向上することができるアセタール基を有する酸増幅剤およびこれを含むフォトレジスト組成物が開示される。前記酸増幅剤は下記化学式の構造を有する。【解決手段】前記化学式において、Rは炭素数4から20の単環式または多環式飽和炭化水素基であり、R1は炭素数1から10の線状炭化水素基、炭素数1から10のペルフルオロ化合物の残基、または炭素数5から20の芳香族化合物の残基であり、Ra及びRbはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1から4の飽和炭化水素基であり、Aはそれぞれ独立して酸素原子(O)または硫黄原子(S)である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記化学式1の構造を有し、露光によって発生された酸によって2次酸を発生させることができる酸増幅剤。

IPC (6件)：

C09K 3/00 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C07D 317/72 , C07D 339/06

FI (7件)：

C09K3/00 K , G03F7/004 503Z , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , C07D317/72 , C07D339/06

Fターム (13件)：

2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 4C022FA02 , 4C022FA03 , 4C022FA06 , 4C023NA08

引用文献：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (3件)

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