特許

J-GLOBAL ID：200903066330334262

真空処理装置

発明者： 北澤 貴
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 渡部 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-362338
公開番号（公開出願番号）：特開2003-161281
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】 補助真空ポンプを小型化することができる真空処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマエッチング装置1は、所定の処理を行う処理室2と、処理室2に接続された排気装置Pとを備える。排気装置Pは、排気管路3を介して処理室2の底部に接続された自動圧力調節器4と、自動圧力調節器4に接続された主真空ポンプ5と、主真空ポンプ5に配管6を介して接続された補助真空ポンプ7とから構成されている。主真空ポンプ5は、背圧が400Pa(約3Torr)以上の高背圧型であり、補助真空ポンプ7はクリーンルーム8内に設置されている。

請求項（抜粋）：

被処理体を真空雰囲気で処理する処理室と、吸入口側が前記処理室に接続され、前記処理室を真空に排気する主真空ポンプと、前記主真空ポンプに接続され、前記主真空ポンプの排出口側を真空に排気する補助真空ポンプと、を備える真空処理装置において、前記主真空ポンプは、前記処理室を比較的高い所定の背圧値で真空に排気する高背圧型であることを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

F04C 25/02 ,  B01J 3/00 ,  B01J 3/02 ,  F04B 37/16 ,  F04B 39/06

FI (6件)：

F04C 25/02 A ,  B01J 3/00 J ,  B01J 3/02 M ,  F04B 37/16 A ,  F04B 37/16 D ,  F04B 39/06 K

Fターム (16件)：

3H003AA06 ,  3H003AB07 ,  3H003AC01 ,  3H003BE06 ,  3H003CD07 ,  3H029AB06 ,  3H029BB32 ,  3H029BB34 ,  3H029CC53 ,  3H076AA21 ,  3H076BB03 ,  3H076BB04 ,  3H076BB43 ,  3H076CC07 ,  3H076CC51 ,  3H076CC91