特許

J-GLOBAL ID：200903066341843541

フォトレジストの現像方法

発明者： 斎藤 肇 ,  池谷 亨 ,  座間 成紀
出願人/特許権者： 日鉄セミコンダクター株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113955
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297403
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 パターン欠陥の低減とパターン寸法の均一性向上の双方を満足することのできるフォトレジストの現像方法を提供する。【解決手段】 フォトレジストの塗布、露光を行った後、フォトレジスト上に純水を供給し、回転数600〜2000回転/分、回転時間0.2〜6秒の条件でウェハを回転させることにより、フォトレジスト上に20〜200μm程度の厚みの水の被膜を形成する。その後、現像液塗布、現像液盛り、純水リンス、スピン乾燥を順次行う。

請求項（抜粋）：

ウェハ上にフォトレジストを塗布し、露光を行った後、前記フォトレジスト上に純水を供給して、回転数600〜2000回転/分、回転時間0.2〜6秒の条件で前記ウェハを回転させ、その後、水膜上に現像液を供給することを特徴とするフォトレジストの現像方法。

IPC (2件)：

G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/30 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 569 C