中空シリカ粒子、それらを含む組成物、およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：谷義一 , 阿部和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-525702
公開番号（公開出願番号）：特表2009-504632
出願日： 2006年08月09日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：

中空シリカ粒子を作製する方法および組成物が開示される。前記粒子はテトラアルコキシシラン、トリアルコキシシランおよびそれらの誘導体、ジアルコキシシランおよびそれらの誘導体、アルコキシシランおよびそれらの誘導体、シリコーンオリゴマー、オリゴマー性シルセスキオキサン、およびシリコーンポリマーからなる群から選択されるシリコン含有化合物を含む組成物を、ポリマーテンプレートコアの全体を覆って分配させ、前記粒子からコアを取り除いて、作製される。本発明の粒子は、実質的に均一な粒子径を有し、液体に対する低い透過を示す。

請求項（抜粋）：

中空シリカ含有粒子を含む組成物であって、前記粒子を作製する方法はテンプレート粒子を生成するステップと、前記テンプレート粒子表面にカップリング剤を供給するステップと、前記テンプレート粒子上にシリカ含有シェルを堆積させるためシリコン含有化合物を供給し、前記テンプレート上に実質的に均一なコーティングを生成するステップと、最初に325°C〜525°C、好ましくは375°C〜475°Cの第一温度で、第一時間の間、好ましくは2〜6時間にわたって、前記テンプレート粒子を加熱し、次いで525°C〜900°C、好ましくは550°C〜700°Cの第二温度で、第二時間の間、好ましくは2〜6時間にわたって、前記テンプレート粒子を加熱することにより前記テンプレート粒子を除去し、中空シリカ粒子を作製するステップと、を含み、および前記組成物は化粧品組成物である組成物。

IPC (4件)：

A61K 8/25 , C01B 33/18 , A61Q 1/08 , A61Q 1/04

FI (4件)：

A61K8/25 , C01B33/18 E , A61Q1/08 , A61Q1/04

Fターム (36件)：

4C083AA122 , 4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083AB232 , 4C083AB442 , 4C083AC012 , 4C083AC072 , 4C083AC122 , 4C083AC352 , 4C083AC392 , 4C083AC482 , 4C083AC842 , 4C083AD132 , 4C083AD162 , 4C083AD172 , 4C083AD512 , 4C083AD642 , 4C083BB21 , 4C083BB48 , 4C083CC12 , 4C083CC13 , 4C083EE06 , 4C083EE07 , 4G072AA25 , 4G072BB07 , 4G072BB16 , 4G072DD05 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ47 , 4G072MM36 , 4G072QQ09 , 4G072RR12 , 4G072TT01 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (9件)

複合粒子、中空粒子とそれらの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-302592 出願人：日本合成ゴム株式会社
特許第6461595号
特許第6461595号

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