特許

J-GLOBAL ID：200903066353578444

炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置

発明者： 山地 信幸 ,  橘 秀久 ,  村田 裕康 ,  伊藤 達規
出願人/特許権者： 株式会社三社電機製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-188169
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018069
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】 減圧下で蒸気洗浄し乾燥させるワークを更に洗浄化させる。【解決手段】 洗浄室2と蒸気洗浄乾燥室3とを上下気密に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室3に紫外線発生ランプ53と紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラスト54と、蒸気洗浄乾燥室に高濃度酸素を供給する高濃度酸素発生装置56とを備えている。

請求項（抜粋）：

下部にワークを炭化水素系溶剤の洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上部に洗浄後のワークを減圧下上記で炭化水素系溶剤を用いた洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、減圧下で乾燥させさらに復圧機能を有する蒸気洗浄乾燥室と、上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室に活性酸素及びオゾン生成が可能な紫外線を発生する紫外線発生ランプと、上記紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラストとを備えた炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置。

IPC (3件)：

C23G 5/04 ,  B08B 3/08 ,  C23G 5/00

FI (3件)：

C23G 5/04 ,  B08B 3/08 A ,  C23G 5/00