特許
J-GLOBAL ID：200903066354734172
表面パターン読取装置
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-006569
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194807
出願日： 1995年01月19日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、読取対象物が撮像素子の撮像エリアに到来したことを容易に検出できる表面パターン読取装置を提供することを目的とする。【構成】 発光手段(14)から照射された光は基準面の第1の領域を貫いて受光手段(40)で受光される。読取対象物が基準面に沿って搬送され、第1の領域に到来すると、照射光は読取対象物で遮断される。このため、受光手段(40)での受光量が大きく減少する。制御手段(50)は、受光手段(40)での受光量が減少した場合に、撮像手段(13)での撮像期間を含む所定期間、光の照射を中止させるように発光手段(14)を制御する。
請求項（抜粋）：
所定の基準面に沿って搬送される読取対象物の表面パターンを読み取る表面パターン読取装置において、前記基準面の第1の領域を貫いて光を照射する発光手段と、前記発光手段から照射された光の光路上で、且つ前記基準面を挟んで前記発光手段の反対側に配置され、前記発光手段からの照射光を受光する受光手段と、前記第1の領域を通過して前記基準面の第2の領域に到達した前記読取対象物の表面パターンを撮像する撮像手段と、前記読取対象物が前記第1の領域を通過したために前記受光手段での受光量が減少した場合に、前記撮像手段での撮像期間を含む所定期間、前記発光手段での光の照射を中止させる制御手段とを備えることを特徴とする表面パターン読取装置。
IPC (2件)：
G06T 1/00
, G07D 5/02 104
