特許

J-GLOBAL ID：200903066361335054

光触媒性反応装置

発明者： 浜名 純二 ,  佐藤 哲也
出願人/特許権者： キヤノン電子株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215330
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024748
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】【課題】被処理ガスの分解性能が十分高く、光触媒性反応装置を通過する被処理ガスの圧力損失が少ない光触媒性反応装置を提供する。【解決手段】被処理ガスが流入される反応槽1に光触媒性粒子4が貯留されており、光触媒性粒子4は光励起されると同時に反応槽1内で浮遊されて被処理ガスと接触することにより、被処理ガスを処理する。

請求項（抜粋）：

被処理ガスが流入される反応槽に光触媒性粒子が貯留されており、該光触媒性粒子は光励起されると同時に該反応槽内で浮遊されて該被処理ガスと接触することにより、該被処理ガスを処理することを特徴とする光触媒性反応装置。

IPC (7件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/20 ,  B01J 8/18 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301

FI (7件)：

A61L 9/00 C ,  A61L 9/20 ,  B01J 8/18 ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 R ,  B01D 53/36 ZAB J ,  B01D 53/36 H

Fターム (69件)：

4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080CC15 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ11 ,  4D048AA17 ,  4D048AA22 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA15Y ,  4D048BA16Y ,  4D048BA21Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA42Y ,  4D048BB01 ,  4D048BB18 ,  4D048CA07 ,  4D048CB03 ,  4D048CC38 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BE06C ,  4G069BE32C ,  4G069CA17 ,  4G069DA08 ,  4G069EA02X ,  4G069EA04Y ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FB71 ,  4G069FC05 ,  4G070AA01 ,  4G070AB04 ,  4G070BA02 ,  4G070BB31 ,  4G070BB40 ,  4G070CA01 ,  4G070CA03 ,  4G070CA15 ,  4G070CB17 ,  4G070DA12 ,  4G070DA21