特許

J-GLOBAL ID：200903066376203855

ビス-[2-ヒドロキシフエニル-3(2H)-ベンズトリアゾール-メタンの誘導体類の製造方法

発明者： トーマス・シヨル
出願人/特許権者： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165325
公開番号（公開出願番号）：特開平5-213908
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【構成】 2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンズトリアゾールをパラホルムアルデヒドまたは1,3,5-トリオキサンと濃硫酸中で均質溶液中で2.0:1.0-2.0:1.5のベンズトリアゾール対アルデヒド供与体のモル比で0-60°Cの温度において反応させることを特徴とする、式【化1】に相当するビス-〔2-ヒドロキシフェニル-3(2H)-ベンズトリアゾール〕-メタンの誘導体の製造方法:【目的】 紫外線吸収剤として有用なビス-〔2-ヒドロキシフエニル-3(2H)-ベンズトリアゾール〕-メタンの新規な製法の提供。

請求項（抜粋）：

2-ヒドロキシフェニル-2H-ベンズトリアゾール類(I)をパラホルムアルデヒドまたは1,3,5-トリオキサンと濃硫酸中で均質溶液中で2.0:1.0-2.0:1.5のベンズトリアゾール(I)対アルデヒド供与体のモル比で0-60°Cの温度において反応させることを特徴とする、式(II)に相当するビス-〔2-ヒドロキシフェニル-3(2H)-ベンズトリアゾール〕-メタンの誘導体類の製造方法:【化1】〔式(I)および(II)中の置換基R1およびR2は下記の意味を有する:R1=C1-6アルキルまたはC6-10アリールであり、R2=水素またはハロゲンである〕。

IPC (3件)：

C07D249/20 ,  C08K 5/3475 KBM ,  C09K 3/00 104