特許
J-GLOBAL ID：200903066376779692
スタンプから基板にパターンを転写する方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
杉村 興作
, 高見 和明
, 徳永 博
, 岩佐 義幸
, 藤谷 史朗
, 来間 清志
, 冨田 和幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-506978
公開番号（公開出願番号）：特表2005-527406
出願日： 2003年05月26日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
この発明は、スタンプ(30)のスタンピング面(31)から基板(20)の受容面(21)にパターンを転写する方法に関する。パターンは、パターンがスタンピング面(31)から受容面(21)に局所的に転写されるような受容面(21)の範囲内にパターンの部分を一定の期間連続的にもたらすことにより、受容面(21)に転写される。個々の部分は、個々のアクチュエーター(59)を用いて動かすことができる。この方法を適用することにより、パターンの転写が、例えばリング状であり、受容面(21)の中心から周辺に移動するか、又は直線状であり、受容面(21)の側面から他の側面に移動する波に従って行われ得る。
請求項（抜粋）：
スタンピング面を有するスタンプが用いられ、前記スタンピング面及び基板の受容面の少なくとも一方が可撓性である、基板の受容面にパターンを転写する方法において、該方法が、
スタンピング面と受容面が互いに対向するような形で、スタンプ及び基板を互いに対して位置決めするステップと、
受容面が延在する方向に、スタンプ及び基板の位置を互いに対して固定するステップと、
第1転写期間中にスタンピング面と受容面の間に第1転写領域を形成し、スタンプが基板にパターンを局所的に転写することができるように、実質的に受容面に直交する方向に、スタンピング面及び受容面の少なくとも一方の第1部分を前後に移動させるステップと、
その後、第2転写期間中にスタンピング面と受容面の間に第2転写領域を形成し、スタンプが基板にパターンを局所的に転写することができるように、実質的に受容面に直交する方向に、スタンピング面及び受容面の少なくとも一方の第2部分を前後に移動させるステップとを含む方法。
IPC (3件)：
B41M1/04
, B41K3/02
, B41M1/30
B41M1/04
, B41K3/02
, B41M1/30 Z
2H113AA01
, 2H113BA01
, 2H113BB07
, 2H113BB09
, 2H113BB14
, 2H113BB22
, 2H113BB23
, 2H113BC12
, 2H113CA17
, 2H113DA04
, 2H113DA38
, 2H113FA28
