特性シグナチャのマッチングによる光波散乱計測方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：河宮治 , 石野正弘 , 稲葉和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-000041
公開番号（公開出願番号）：特開2006-226994
出願日： 2006年01月04日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】計測された回折スペクトルと特性領域における複数のシミュレートされた回折スペクトルとの類似性を比較して、格子構造パラメータを決定する方法を提供する。【解決手段】光波散乱計測方法は、A)格子構造パラメータを入力し、B)前記パラメータを基礎として入射光値に渡り回折形状を計算し、C)前記パラメータのうち1以上を増分的に変更し、D)ステップBを繰り返し、変更された格子構造パラメータを基礎として前記入射光値に渡り追加的な回折形状を計算し、E)増分的に増大する格子構造パラメータ値の変更が回折形状内にしきい値を超える変化を発生させる、計算された回折形状の特性領域を識別し、F)計算された回折形状の特性領域をライブラリに格納し、H)サンプル基板上で光波散乱計測を実行し、入射光値に渡って散乱シグナチャを生成し、G)散乱シグナチャをライブラリ内の計算された回折形状と比較し、H)選択された類似レベルまで散乱シグナチャとマッチする、計算された回折形状を識別する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光波散乱計測方法であって、 A.コンピュータへ格子構造パラメータを入力することと、 B.前記格子構造パラメータを基礎としてある範囲の入射光値に渡り回折形状を計算することと、 C.前記格子構造パラメータのうち1つ以上を増分的に変更することと、 D.ステップBを繰り返し、前記変更された格子構造パラメータを基礎として前記範囲の入射光値に渡り追加的な回折形状を計算することと、 E.前記増分的に増大する格子構造パラメータ値の変更が回折形状内にしきい値を超える変化を発生させる、前記計算された回折形状の特性領域を識別することと、 F.前記計算された回折形状の特性領域をライブラリに格納することと、 H.サンプル基板上で光波散乱計測を実行し、ある範囲の入射光値に渡って散乱シグナチャを生成することと、 G.前記散乱シグナチャを前記ライブラリ内の計算された回折形状と比較することと、 H.選択された類似レベルまで前記散乱シグナチャとマッチする、計算された回折形状を識別することを含む方法。

IPC (5件)：

G01N 21/47 , G01B 11/00 , G01N 21/00 , G01N 21/21 , H01L 21/027

FI (5件)：

G01N21/47 A , G01B11/00 G , G01N21/00 B , G01N21/21 Z , H01L21/30 525E

Fターム (38件)：

2F065AA22 , 2F065AA30 , 2F065BB02 , 2F065BB18 , 2F065DD07 , 2F065FF48 , 2F065FF49 , 2F065GG04 , 2F065GG05 , 2F065GG22 , 2F065HH04 , 2F065HH18 , 2F065JJ08 , 2F065LL33 , 2F065LL42 , 2F065LL67 , 2F065MM16 , 2F065PP05 , 2F065QQ03 , 2F065QQ25 , 2F065QQ42 , 2F065RR06 , 2F065SS13 , 2F065UU05 , 2G059AA02 , 2G059AA03 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059MM01 , 2G059MM05 , 5F046EA07 , 5F046FA04 , 5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第6,785,638号
米国特許第6,768,967号

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