特許

J-GLOBAL ID：200903066388376470

一酸化炭素ガスセンサ

発明者： 窪田 一成
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-041791
公開番号（公開出願番号）：特開平5-240820
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【目的】エチルアルコールガスの干渉のない一酸化炭素ガスセンサを得る。【構成】アルミナ基板1の上に感ガス層2、被覆層3を順次積層し、この際感ガス層2は酸化スズ担体にパラジウムと酸化銅を付着させ、被覆層3はアルミナ担体に酸化銅を付着させる。

請求項（抜粋）：

基板上に順次積層された感ガス層と被覆層とを有し、感ガス層は酸化スズ担体にパラジウムと酸化銅を付着させたものであり、被覆層はアルミナ担体に酸化銅を付着させたもので感ガス層を被覆するものであることを特徴とする一酸化炭素ガスセンサ。