成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084052
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275608
出願日： 1993年03月18日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】【目的】成膜開始当初の状態を繰り返し再現することにより成膜の面間及び面内均一性を向上させることができる成膜方法を提供する。【構成】処理容器4内へ収容した被処理体Wに処理ガスを供給して表面に薄膜を形成する成膜方法において、処理ガスの供給の抑制、例えば供給停止と定常供給とを繰り返す。これにより、処理ガスの拡散を阻害する反応副生成物の影響を大幅に抑制することができる。

請求項（抜粋）：

処理容器内へ収容された被処理体に1種または複数種類の処理ガスを供給して反応させることにより前記被処理体の表面に薄膜を形成する成膜方法において、前記処理ガスの少なくとも1種類の供給の抑制と定常供給とを繰り返すことを特徴とする成膜方法。

IPC (3件)：

H01L 21/316 , H01L 21/31 , H01L 21/318

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-093071
特開平1-143221
特開昭60-116136

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審査官引用 (3件)

特開平2-093071
特開平1-143221
特開昭60-116136

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