特許
J-GLOBAL ID：200903066407429474
液体処理装置及びこれを使用した液体処理施設
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-212427
公開番号（公開出願番号）：特開平5-317611
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：
【要約】【目的】 固液分離する等の処理能率に優れ、小型で構造が比較的に簡単な経済性に優れた液体処理装置及びこれを使用した液体処理施設を提供すること。【構成】 処理槽の中心に少なくとも1個の固定円筒若しくは垂直回転円筒が設けられている液体処理装置において、固形物や懸濁物及び溶解性物質を含有する液体を固定円筒若しくは回転円筒の円周方向から分散流入させる流入口が上記処理槽の底部又は上記円筒近傍に設けられており、且つ上記処理槽の中間部分には、固定円筒の周辺又は回転円筒の周辺に形成される緻密に分散された固形物層の上面付近の固形物を取り出す手段が設けられており、且つ上記円筒には該固形物層において発生する塊り易い状態を壊す手段を設けられており、且つ上記固形物層の間を通り抜けて分離された液体の流出口が上記処理槽の上部近傍に設けられていることを特徴とする液体処理装置及びこれを使用した液体処理施設
請求項（抜粋）：
処理槽の中心に少なくとも1個の固定円筒若しくは垂直回転円筒が設けられている液体処理装置において、固形物や懸濁物及び溶解性物質を含有する液体を固定円筒若しくは回転円筒の円周方向から分散流入させる流入口が上記処理槽の底部又は上記円筒近傍に設けられており、且つ上記処理槽の中間部分には、固定円筒の周辺又は回転円筒の周辺に形成される緻密に分散された固形物層の上面付近の固形物を取り出す手段が設けられており、且つ上記円筒には該固形物層において発生する塊り易い状態を壊す手段を設けられており、且つ上記固形物層の間を通り抜けて分離された液体の流出口が上記処理槽の上部近傍に設けられていることを特徴とする液体処理装置。
IPC (2件)：
B01D 21/26 ZAB
, C02F 1/40 ZAB
