特許
J-GLOBAL ID：200903066409423805
シリコンウエハーの洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-275071
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104237
出願日： 1992年09月19日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】本発明は、シリコンウェハーの洗浄工程にて、スピンナー乾燥の際に、シリコンウェハー表面に水滴が残らないようにした、シリコンウェハーの洗浄方法を提供することを目的とする。【構成】シリコンウェハー10の表面に親水性の自然酸化膜11を形成して、該シリコンウェハー全体を洗浄用純水で洗浄した後、該シリコンウェハーをスピンナーにより乾燥させることにより、上記親水性の自然酸化膜11上に、水滴が残らないように、シリコンウェハーの洗浄方法を構成する。
請求項（抜粋）：
シリコンウェハーの表面に親水性の自然酸化膜を形成して、該シリコンウェハー全体を洗浄用純水で洗浄した後、該シリコンウェハーをスピンナーにより乾燥させることにより、上記親水性の自然酸化膜上に、水滴が残らないようにしたことを特徴とする、シリコンウェハーの洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/316
