特許
J-GLOBAL ID：200903066419509422

反射防止膜

発明者：
沢村 光治

沢村 光治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 丹羽 宏之 ,  野口 忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-309649
公開番号（公開出願番号）：特開2006-119525
出願日： 2004年10月25日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：
【課題】 一方の片面が多層反射防止膜特性、他の片面がMgF2の単層膜特性を必要とするレンズを加工する場合、スパッタ法のみを用いて両面加工が可能な、MgF2の単層膜特性を有する多層反射防止膜を提供することにある。【解決手段】 反射防止膜の基準波長をλ0とした時、λ0における屈折率が2.1以上の高屈折率膜と1.65以下の低屈折率膜の交互層で構成される6層以上の反射防止膜において、空気側最終層がSiO2膜で形成され、可視域(405〜700nm)の各波長の反射率をR(λ)、同一基準波長をλ0を有する単層MgF2膜の各波長の反射率をR単(λ)とした時、 |R(λ)-R単(λ)|≦0.4%......(1) (1)式を満たすことを特徴とする反射防止膜とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
反射防止膜の基準波長をλ0とした時、λ0における屈折率が2.1以上の高屈折率膜と1.65以下の低屈折率膜の交互層で構成される6層以上の反射防止膜において、空気側最終層がSiO2膜で形成され、可視域(405〜700nm)の各波長の反射率をR(λ)、同一基準波長をλ0を有する単層MgF2膜の各波長の反射率をR単(λ)とした時、 |R(λ)-R単(λ)|≦0.4%......(1) (1)式を満たすことを特徴とする反射防止膜。
IPC (3件)：
G02B 1/11 ,  C03C 17/34 ,  C23C 14/06
FI (3件)：
G02B1/10 A ,  C03C17/34 Z ,  C23C14/06 P
Fターム (17件)：
2K009AA09 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4G059AA11 ,  4G059AC04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA09 ,  4G059EB04 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4K029AA09 ,  4K029BA42 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特公平7-111482号公報
  • 特許第2566634号公報
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM