特許

J-GLOBAL ID：200903066450394927

99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤およびその製造方法

発明者： 長谷川 良雄 ,  西野 瑞香 ,  石川 幸治 ,  蓼沼 克嘉 ,  棚瀬 正和 ,  黒沢 清行
出願人/特許権者： 日本原子力研究所 ,  株式会社化研
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-186053
公開番号（公開出願番号）：特開平10-030027
出願日： 1996年07月16日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】 天然Moから(n,γ)法により、実用的なジェネレータを安定して製造するための優れた99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤及びその製造方法を提供する。【解決手段】 下記化1(式中、Xはハロゲン、アルコキシ基及び水酸基から成る群より選ばれる1種で、10%以上のXがハロゲンを示す)で表わされる繰返し単位から主としてなる骨格構造を有し、繰返し単位 (A), (B), (C) の含有量により分岐構造が制御されたブロック(I)と、下記化2(式中Mはケイ素又はチタン、Yはハロゲン、アルコキシ基及び水酸基から成る群より選ばれる1種を示す)で表わされる繰返し単位から主としてなる骨格構造を有するメタロキサンブロック(II)とから成る99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤及びその製造方法である。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

次の化1;【化1】(式中、Xはハロゲン、アルコキシ基及び水酸基から成る群より選ばれる1種で、10%以上のXがハロゲンを示す)で表わされる繰返し単位から主としてなる骨格構造を有し、繰返し単位 (A), (B), (C) の含有量により分岐構造が制御されたブロック(I)と、次の化2;【化2】(式中Mはケイ素又はチタン、Yはハロゲン、アルコキシ基及び水酸基から成る群より選ばれる1種を示す)で表わされる繰返し単位から主としてなる骨格構造を有するメタロキサンブロック(II)とから成ることを特徴とする99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤。

IPC (4件)：

C08G 79/00 NUR ,  B01J 20/02 ,  C08G 77/42 NUK ,  A61K 51/00

FI (4件)：

C08G 79/00 NUR ,  B01J 20/02 B ,  C08G 77/42 NUK ,  A61K 49/02 B