特許

J-GLOBAL ID：200903066460705734

フォトレジスト除去方法

発明者： 藤野 敦子 ,  熊田 輝彦 ,  長江 偉 ,  宮本 誠 ,  大家 泉 ,  野田 清治 ,  葛本 昌樹
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107781
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290287
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 作業上の危険性が低く、換気設備などのためのコストを低減でき、環境に優しくかつ除去速度を向上したフォトレジスト除去方法を提供する。【解決手段】 基板1表面に存在するフォトレジストに、溶媒分子を含有するオゾン化ガスである溶媒分子含有湿潤オゾンを接触させる分解工程と、上記フォトレジストを溶解させるフォトレジスト除去液を用いて基板1表面を洗浄する洗浄工程とを含む。

請求項（抜粋）：

基板表面に存在するフォトレジストに、溶媒分子を含有するオゾン化ガスである溶媒分子含有湿潤オゾンを接触させる分解工程と、前記フォトレジストを溶解させるフォトレジスト除去液を用いて前記基板表面を洗浄する洗浄工程とを含む、フォトレジスト除去方法。

IPC (4件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/302 H ,  H01L 21/306 R

Fターム (17件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  5F004BA19 ,  5F004BD01 ,  5F004DA00 ,  5F004DB26 ,  5F004EA34 ,  5F043AA37 ,  5F043BB25 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F046MA02 ,  5F046MA04 ,  5F046MA13 ,  5F046MA17