特許

J-GLOBAL ID：200903066474635240

被処理物の流体処理方法及びその装置

発明者： 岡 齊 ,  森田 富実雄 ,  藤城 雅隆 ,  山岡 明暢
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-168556
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084503
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】 摩擦粉を発生せず、流体を漏らすことがなく、被処理物表面とともに被処理物裏面を高清浄かつ安価に流体処理する。【解決手段】 被処理物17を保持する被処理物保持手段18と、乱流で被処理物裏面が汚染されるのを防ぐ裏遮蔽板15とを機械的に分離する。裏遮蔽板15を表遮蔽板11と同様に固定し、被処理物保持手段18のみを回転させて、裏遮蔽板15を介して流体を供給する供給管22を裏遮蔽板15にリジッドに接続できるようにする。また、被処理物表面を流体処理した流体を回収筒13で回収し、これを循環して供給管22より被処理物裏面に供給する循環系を設ける。

請求項（抜粋）：

被処理物の表裏面が汚染されるのを防ぐために前記被処理物の表裏面を表遮蔽板および裏遮蔽板で覆い、前記表遮蔽板および裏遮蔽板に対して被処理物を相対的に回転させて、前記被処理物の表面と前記表遮蔽板との間に流体を供給して、前記被処理物の表面の流体処理を実行し、前記被処理物表面の流体処理を実行した処理済みの流体を回収し、この回収した被処理物表面の処理済みの流体を前記被処理物の裏面と前記裏遮蔽板との間に供給して、前記被処理物の裏面の流体処理を実行することを特徴とする被処理物の流体処理方法。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

B08B 3/04 A ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/306 J