特許

J-GLOBAL ID：200903066479107870

透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス

発明者： 早川 直也 ,  西川 和浩
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-056491
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246233
出願日： 1998年03月09日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 透明基板に配した透明電極線パターン、例えば酸化インジウム-錫系または酸化錫系の膜を被覆するのに適した低融点ガラスで、前記電極線の侵食を抑制すること。【解決手段】 表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、ガラスの成分組成がwt%で、SiO2 2〜6、B2O3 20〜40、Al2O3 0〜5、ZnO 20〜25、PbO 10〜40、CaO、MgO、SrO、BaOより選ばれた1種又は2種以上を5〜35の範囲で含み、かつ軟化点が590°C以下、常温〜 300°Cまでの熱膨張係数が70〜90×10ー7/°Cである透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。

請求項（抜粋）：

表示パネル用基板に配した透明電極線パターン上に、透明な絶縁性被膜を形成するための低融点ガラスであって、ガラスの成分組成がwt%で、SiO2 2〜6、B2O3 20〜40、Al2O3 0〜5、ZnO 20〜25、PbO 10〜40、MgO、CaO、SrO、BaOより選ばれた1種又は2種以上を 5〜35の範囲で含み、かつ軟化点が 590°C以下、常温〜 300°Cまでの熱膨張係数が70〜90×10ー7/°Cであることを特徴とする透明絶縁性被膜形成用低融点ガラス。

IPC (4件)：

C03C 3/062 ,  C03C 3/066 ,  C03C 3/074 ,  G02F 1/1333 500

FI (4件)：

C03C 3/062 ,  C03C 3/066 ,  C03C 3/074 ,  G02F 1/1333 500