特許
J-GLOBAL ID：200903066484448171
エッチング方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303149
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161680
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 エッチング液劣化のモニタに関し,精度よく検出する。【構成】 モニタ槽6内に、被エッチング膜上に疎パターン及び密パターンを形成したモニタ用基板9を設置して該被エッチング膜のエッチングを行い,観察手段10によりそれぞれのパターンの該被エッチング膜が完全にエッチング除去されるジャストエッチング時間(エッチング終点時間)の比を求めてエッチング液の劣化を判定する。
請求項（抜粋）：
被エッチング膜上に疎パターン及び密パターンのエッチングマスクを形成して該被エッチング膜のエッチングを行い,それぞれのパターンの該被エッチング膜が完全にエッチング除去されるジャストエッチング時間の比を求めてエッチング液の劣化を判定することを特徴とするエッチング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, C23F 1/08 101
, H01L 21/308
