特許
J-GLOBAL ID：200903066493349143
試料分析方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-310547
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153579
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】試料表面の被分析箇所に微小径に絞ったレーザ光を照射して、該箇所の構成物質を気化・イオン化させ、発生したイオンを飛行時間型の質量分析計にかけて、上記物質の成分・組成分析を行なう試料分析方法において、上記物質が未知の成分・組成であっても、上記物質の気化に最適な照射強度でレーザ光照射を行なって、上記物質を最適な分析条件の下で分析できるようにすること。【解決手段】試料5表面に照射するレーザ光の照射強度(エネルギー)を照射レーザ光の光路上に設置した絞り(21)や透過率調整フィルタ(23)を用いて任意に選択(設定変更)できるようにし、未知物質の分析に際しては、照射強度が小さい方から順次試料に照射して行くことにより、被分析箇所が最適な気化条件で気化・イオン化された時の分析データを用いて分析を行なう。【効果】過大な照射強度でのレーザ光照射により、試料を気化・消失させてしまうことなく、常に適切な気化・イオン化条件の下で得られる分析データを用いての、高精度の質量分析ができる。
請求項（抜粋）：
試料表面の被分析箇所に微小径に絞ったレーザ光を照射して上記被分析箇所を構成する物質を気化させて、この気化によって生成される原子,分子,あるいはイオンを検出して、上記被分析箇所を構成する物質の分析を行なう試料分析方法において、上記被分析箇所に照射する上記レーザ光の照射強度を変化させることによって、上記被分析箇所の上記試料表面からの分析深さおよび被分析量を制御することを特徴とする試料分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 27/64 B
, G01N 23/225
